ArF 리소그래피 시장을 위해 자세를 취한 정밀도 성장:2034 평가에 도달하 KRW1.6 억 8.1%의 CAGR
글로벌 ArF 리소그래피 시장
가치, USD980 만 2026,은 계획에서 성장하 KRW1,060 만 2026 을 KRW1,606 만 2034.
이 꾸준한 궤도에 의해 뒷받침하는 8.1%의 CAGR 에의해 구동에 대한 지속적인 요구를 충족시 작고,더 효율적인 반도체 디바이스에서
AI,자동차,IoT 야 합니다.
시장 분할:
ArF (아르곤 불소)리소그래피를 나타내는"고해상도"엔진의 현대적인 반도체 제조하고 있습니다.
를 이용하여 193nm 깊은 자외선(DUV),빛 이러한 시스템을 사용하면 복잡한 패턴 위해 필요한 하위 30nm 노드입니다. 도약을 향한 KRW1.6billion
평가에 의해 2033 을 반영한 전략적 피벗로 통합된 장치 제조업체(IDMs)및 주물용 멀티-패터닝 기술은 수명을 연장하고 정밀도의
DUV 기술에서 점점 더 복잡한 칩 건축 풍경입니다.
다운로드 전체 보고서: https://semiconductorinsight.com/report/arf-lithography-market-size/
시장 역동성
드라이버
- 급증하는
수요에 대한 진보된 노드 로의 전환을 sub-20nm 프로세스에 대한 스마트폰과 AI 가속기는 연료를 공급하의 채택 ArFi
(침)시스템을 제공하는 우수한 해상도 및 수확량 요금입니다.
- 의 지배
아날로그 칩을 생산: ArF 시스템지"sweet spot"아날로그 및 혼합신호 Ic,분산을 나노미터 수준의 정밀도와
비용 효과성에 필요한 전력 관리 RF 및 구성 요소입니다.
전&감금
- 지&Supply
Chain 압력: 중국을 들고 53%,시장 점유율을 국제 무역 규정하고 독립적인 데이터 관리에 관한 문제는 높은-엔드 리소그래피
장비 유지한 운영상의 장애물이 있습니다.
- 극단적인
기술의 통합: 백엔드의 복잡도 침수 리소그래피,을 포함한 유체 역학과 오버레이 성능,선물 가파른 장벽에 대한 새로운 시장에 진입.
전략적 구분
에 ArF 리소그래피 시장은 분류하여 높은 성장의 기술 및 응용 프로그램-특정 세그먼트:
- 유형:
- ArFi
침수 리소그래피(54%Share): 지배적인 세그먼트를 위한 진보된 노드 반도체.
- ArF
Dry 리소그래피(46%Share): 중요한 성숙한 노드 및 비용에 민감한 애플리케이션.
- 응용 프로그램:
- 아날로그
칩(지도 세그먼트): 필수적인 자동차 및 산업 power management.
- 로직 칩,광학
센서,및 다른 사람입니다.
- 최종 사용자
사용:
- IDM(65%Share):
수직으로 통합한 제조업체 선도하는 전략적인 설비 투자입니다.
- 파운드리(35%Share)및
연구 기관입니다.
- 기술 노드:
- 20-28nm:
최적의 균형에 대한 주류 ICs 및 자동차 반도체.
- 아래
20nm28-45nm 노드입니다.
경쟁적인 조경
경쟁 환경은 매우 단,다음의 세 가지 중요한 선수—ASML,니콘,미지 계 앱의 결정판이 모두 들고의 100%가
시장을 공유합니다. 로 2026,이러한 지도자들에 초점을 맞추고 있의 처리량을 향상과 오버레이는 측정을 지원하는 글로벌 서지에서는 파운드리용량입니다.
기간 산업 참가자들:
- ASML
보유 NV (네덜란드)
- Nikon
Corporation (일본)
- 상하이
마이크로전자 장비(미지 계 앱의 결정판) (중국)
- Canon
Inc. (일본)
- 도쿄 전자
제한 (일본)
- Lam
연구 (미국)
- 적용 소재
(미국)
- KLA
Corporation (미국)
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