광학 리소그래피 렌즈 시장에 도달하 KRW3.5Billion by2032 로 고 NA 장치 및 진보된 포장 드라이브 정밀 광학 Demand

 

글로벌 광학 리소그래피 렌즈 시장에 평가되었다 USD18 억에 2026 과를 도달할 것으로 예상 된 KRW3.5billion by2034,성장하고 CAGR of7.2%는 예측 기간 동안(2026-2034). 는 동안 미국 시장을 지배하고 예상과 크기의 KRW620 백만에서 2026,중국은 것으로 예상한 급속한 성장에 도달,USD890million by2032. 상승에 대한 투자 진보된 노드 반도체의 제조와 차세대 리소그래피 플랫폼은 지원하는 지속적인 수요를 위한 초정밀 광학 시스템입니다.

광학 렌즈를 위한 리소그래피는 정밀 설계 요소를 조작하는 광파 전송하는 복잡한 회로 패턴 위에 반도체 웨이퍼. 이러한 높은 성능의 렌즈로 분류됩니다 DUV(깊은 자외)및 EUV(극단적인 자외)개,각 재생 중요한 역할을 반도체 제조 프로세스는 연락처,인쇄 호텔 인쇄,프로젝션 인쇄 리소그래피. DUV 세그먼트를 혼자가 증가할 것으로 예상되 6.8%의 CAGR 에 도달,USD1.2billion by2030 년에 의해 지원,지속적인 사용에 성숙하고 mid-진보된 노드를 제작 뿐만 아니라 특수 장치를 생산합니다.

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시장 성장은 강화해 지속적인 fab 확장,프로세스 노드 마이그레이션,그리고 필요한 엄격한 오버레이 정확도 및 해상도를 제어합니다. 로 칩 제조업체 밀어로 작은 형상과 높은 밀도 트랜지스터,리소그래피 시스템을 필요로 점점 더 복잡한 어셈블리의 렌즈와 함께 우수한 수차 제어,열적 안정성 및 코팅 내구성이 있습니다. 프로젝션 인쇄 리소그래피는 계속 이어질 시스템을 채택하는 동안,EUV 플랫폼 운전 새로운 세대의 고도로 전문화된 반사 광학적인 디자인. 평행한 투자에서 국내 반도체 이니셔티브는 더 강화하는 수요에 대한 가시성 주요 제조 영역입니다.

신흥 높은 숫자의 조리개(고 NA)EUV 시스템은 열기는 새로운 국경에 대한 광학 렌즈 제조 업체입니다. 이러한 차세대 시스템을 필요로 완전히 새로운 광학적인 디자인으로 더 복잡한 거울의 배열 및 엄격한 정밀도 공차를 얻을 수 있습니다. 초기부터 이미 협력하고 있다는 광학 부품 공급업체를 준비한 생산 규모의 배포. 공급업체 만남을 할 수 있는 높은-NA 성능 임계값은 예상되는 안전한 장기 공급 위치로 이러한 도구로 전환 볼륨 제조 환경입니다.

주요 광학 렌즈 제조 프로파일

• Carl Zeiss AG(독일)
• Nikon Corporation(일본)
• Canon Inc. (일본)
• Jenoptik AG(독일)
• Corning Incorporated(미국)
• Hoya Corporation(일본)
• Edmund Optics(미국)
• Fujifilm Holdings Corporation(일본)
• Schott AG(독일)

세그먼트 분석:유형

• 렌즈 DUV
• 하위:KrF 엑시머 레이저 렌즈,ArF 엑시머 레이저 렌즈
• 렌즈 EUV

세그먼트 분석:응용 프로그램

• 문의 인쇄 리소그래피
• 호텔 인쇄 리소그래피
• 프로젝션 인쇄 리소그래피
• 다른 사람

세그먼트를 분석해 물질

• Fused Silica
• 칼슘 불화물
• 다른 사람

세그먼트 Analysis:끝 사용에 의하여 산업

• 반도체
• 편평한 패널 디스플레이
• 인쇄 회로 기판
• 다른 사람

지역,북미 지역의 최전선에 남아있 광학 리소그래피 렌즈를 채택에 의해 지원되는 주요 반도체 R&D 투자와 국내 제조 인센티브와 함께 강한 풀서는 진보된 노드를 생산합니다. 유럽의 유지 관리 전략적인 위치에서 전문 EUV 생태계 리소그래피,함께 깊은 전문성에서 정밀한 광학 및 지역화된 공급 체인을 지원하는 고급 시스템입니다. 아시아-태평양의 계정에 대해 최대 소비,공유,기반을 선도하여 파운드리 및 IDMs 에서는 대만,한국,중국,일본을 모두 고급 노하고 성숙한 노드 용량 확장을 유지에 대한 높은 수요 DUV 및 EUV 광학적인 어셈블리입니다.

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