광원에 대한 리소그래피 시장에 도달 할 것으로 예상된 KRW4.3 억 2034 에 의해 구동 EUV 채택에서는 첨단 반도체 노드

 

글로벌 광원에 대한 리소그래피 시장에 평가되었다 USD2.1 억 2026 과를 도달할 것으로 예상 된다 USD4.3 억 2034,성장하고 성장률은 9.1%의 예측 기간 동안 2026-2034. 시장 확대에 의해 인도되고 있는 꾸준한 기술 노드 마이그레이션 및 증가의 배포를 극단적인 자외선 시스템에서 첨단 반도체 제조 라인입니다.

광원에 대한 리소그래피는 핵심 서브시스템에서 반도체 제조 장비를 전송하는 데 사용되는 회로 패턴에 웨이퍼를 가진 나노미터 수준의 정밀도입니다. 이러한 소스를 생성하고 자외선에서 정의된 파장을 포함하여 깊은 자외선(DUV)등 ArF(193nm),KrF(248nm),그리고 나는 라인(365nm),뿐만 아니라 극한 자외선(EUV)에 13.5nm. 선택의 파장하고 소스에 직접 전원 영상,처리량 및 프로세스 제어에서 논리,메모리,및 특수 장치를 생산합니다.

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시장 정의와 역학

시장이 진화와 함께하는 글로벌 반도체 산업의 전환을 향한 하위 10nm 및 신흥 sub-3nm 입 공정 기술입니다. 으로 장치의 형상이 축소,리소그래피 시스템을 필요한 높은 광도,엄격한 파장의 안정성과 가동 시간 향상. EUV 광원을 점점에서 배포되는 최첨단 논리고 메모리를 생산하는 동안,DUV 플랫폼을 지원하기 위해 계속 높은 볼륨 제조에서 성숙하고 중간 범위 노드입니다.

용량 확장 프로그램,지역 반도체 자급 자족을 계획,프로세스 복잡성이 증가 강화 장기 수요. 장비 생태계는 더 통합 빛으로,소스 성과 밀접하게 연결하는 스캐너 생산성,중첩 통제 및 수익 관리에 걸쳐 고급겨 있습니다.

시장 드라이버

• 의 상승 생산에서 아래 10nm 노드를 요구하는 장치 리소그래피 및 고전력,높은 안정성의 광원
• 정부가 지원하는 반도체 제조 프로 증가하는 새로운 팹 및 투자 도구
• 확장의 사용은 고급 칩 AI,고성능 컴퓨팅과 5G 인프라
• EUV 채용 확장에서 논리 장치로 DRAM 및 고급 NAND 제조

시장 감금

• 높은 자본 비용과 운영의 복잡성 EUV 광원 시스템
• 내보내기 제어와 기술을 전송한 제한에 영향을 미치는 도구는 선적 및 서비스 모델
• 한정된 가용성 전문 엔지니어링에서 재능 플라즈마,레이저,그리고 정밀 광학 도메인

시장 기회

• 상업적인 rollout 의 고 NA EUV 플랫폼을 사용 패턴에는 아래 2nm
• 에서 성장 애프터마켓 서비스,모듈 및 소모품에 묶여 설치 기반의 확장
• 전력 및 효율성 개선에서 차세대 DUV 및 EUV 소스 아키텍처

경쟁적인 조경

의 경쟁력있는 풍경이 집중 사이에서 제한된 수의 고도로 전문화된 레이저 및 플라즈마의 광원 제공으로 깊은 통합 리소그래피 도구는 플랫폼입니다. 경쟁 센터에서 원전력,가동,유지보수,간격 및 필드 서비스 기능입니다. 전략적 협력 관계와 스캐너 제조업체와 최첨단 팹 중심을 유지하는 시장 위치.

핵심 공급업체를 포함 자회사와의 파트너 ASML 등 Cymer과 함께 일본의 기반 기가포톤 및 기타 지역 기술 개발자입니다.

주요 광원에 대한 회사 리소그래피

• Cymer(ASML)
• 가포톤
• 베이징 RSLaser Opto-Electronics Technology
• Optosystems
• USHIO

세그먼트 분석

에 의해 유형

• DUV 광원(ArF,KrF,i-line)
• EUV 광원
• 다른 사람

응용 프로그램

• 통합 장치 제조업체(IDM)
• Foundry
• 다른 사람

지역적 통찰력

아시아 태평양 리드이 글로벌 수요에 의해 지원되는 대규모 파운드리 및 메모리의 생산 능력과 계속 팹 투자로에서 중국,대만,한국,일본. 북아메리카 남아 있는 주요 혁신 및 채택센터 EUV 플랫폼에 의해 지원,국내 인센티브를 제조 및 고급 노드 개발 프로그램입니다. 유럽을 보유하고 중요한 기술 위치를 통해 리소그래피는 생태계의 리더십과 구성요소 제조 깊이가 있습니다. 남 아메리카 및 중동&아프리카를 나타내는 신흥 시장으로 활동에 집중해 성숙한 노드를 생산,전문 반도체,그리고 장기 기능이다.

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